|
|
| Автор: Владимир Астахов |
| Издательство: МИСиС |
| Год: 2007 |
| Cтраниц: 1 |
| Формат: PDF |
| Размер: 0 |
|
| Качество: excellent |
| Язык: |
|
 |
|
Описание:
|
В практикуме рассматриваются принципы расчета режимов термического окисления, обеспечивающего заданную толщину маскирующей оксидной пленки, и режимов диффузии при формировании легированных слоев с заданными параметрами для кремниевых приборных структур. Излагается методика расчетов в программе Math Cad 2001.
|
Пресс - релиз
string(4) "true"
int(290)
|
