|
|
| Автор: Наталья Макушина |
| Издательство: МГТУ им. Н.Э. Баумана |
| Год: 2006 |
| Cтраниц: 1 |
| Формат: PDF |
| Размер: 0 |
| ISBN: 5-7038-2926-7 |
| Качество: excellent |
| Язык: |
|
 |
|
Описание:
|
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8.
|
Пресс - релиз
string(4) "true"
int(242)
|
